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| 050 |
_aQC702.I55 _bI58 |
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| 245 | 0 | 0 |
_aIon implantation and beam processing / _ced, by J. S. Williams, J. M. Poate |
| 300 | _a419 páginas | ||
| 650 | 0 | _aBombardeo iónico | |
| 650 | 0 | _aHaces electrónicos | |
| 650 | 0 | _aImplantación de iones | |
| 650 | 0 | _aSemiconductores impuros | |
| 700 |
_aPoate, John Milo, _eeditor |
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| 700 |
_aWilliams, James Stanislaus, _eeditor |
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| 264 | 1 |
_aSydney : _bAcademic, _c1984 |
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| 336 |
_atexto _2rdacontent |
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| 337 |
_asin medio _2rdamedia |
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_avolumen _2rdacarrier |
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| 999 |
_c387 _d387 |
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