000 | 00668nam a2200217zi 4500 | ||
---|---|---|---|
005 | 20230201161139.0 | ||
008 | 040830s1980 000 0 eng d | ||
020 | _a047107828x | ||
035 | _aMX001000330086 | ||
050 |
_aQC702.7P6 _bC35 |
||
100 | 1 |
_aChapman, Brian, _d1923- _eautor |
|
245 | 1 | 0 |
_aGlow discharge processes : _bsputtering and plasma etching / _cBrian Chapman |
300 | _a406 páginas | ||
650 | 4 | _aDescargas luminosas | |
650 | 4 | _aPulverización catódica (Física) | |
264 | 1 |
_aNew York : _bWiley, _cc1980 |
|
336 |
_atexto _2rdacontent |
||
337 |
_asin medio _2rdamedia |
||
338 |
_avolumen _2rdacarrier |
||
999 |
_c347 _d347 |