Film deposition by plasma techniques / Mitsuharu konuma
Tipo de material: TextoSeries Springer series on atoms + plasmas ; 10Editor: Berlin : Springer Verlag, c1992Descripción: ix, 224 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 3540540571Tema(s): Películas delgadas | Deposición química de vapor asistida por plasmaClasificación LoC:TK7871.15F5 | K65Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Libros | Libros Libros | Coleccion General | TK7871.15F5 K65 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 913 |
Total de reservas: 0
No hay comentarios en este titulo.