Kääriäinen, Tommi, <br/><br/>
Atomic layer deposition :  principles, characteristics, and nanotechnology applications / 
Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, and Arthur Sherman 
 - 2nd Edition 
 - xv, 253 páginas :  ilustraciones 
<br/><br/><label>ISBN: </label>9781118062777 (encuadernado : papel alcalino) 
<br/><br/><label>Subjects--Topical Terms: </label><br/>Deposición química de vapor<br/>Epitaxia<br/>Microelectrónica<br/>Nanotecnología<br/>Deposición atómica por capas
<br/><br/><label>LC Class. No.: </label>TS695  / K33 2013