Characterization of plasma-enhanced cvd processes :  Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / 
Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess 
 - 250 páginas 
 - Materials Research Society symposium proceedings ;  v. 165 .
 - Materials Research Society symposium proceedings .
<br/><br/><label>ISBN: </label>1558990534 
<br/><br/><label>Subjects--Topical Terms: </label><br/>Deposición química de vapor asistida por plasma--Congresos<br/>Circuitos integrados--Diseño y construcción--Congresos
<br/><br/><label>LC Class. No.: </label>TS695.15  / C43