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Lecture notes on principles of plasma processing / Francis F. Chen and Jane P. Chang
Tipo de material:
TextoIdioma: ENG Editor: New York : Kluwer Academic/Plenum, c2003Descripción: ix, 208 páginas : ilustraciones + 1 CD-ROM (4 3/4 plg.)Tipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0306474972Otro título: Principles of plasma processingTema(s): Ingeniería del plasma | Química del plasma | Dinámica del plasmaClasificación LoC:TA2020 | C44
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros
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Libros Libros | Coleccion General | TA2020 C44 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 3881 |
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