Plasma processes for semiconductor fabrication / W. N. G. Hitchon
Tipo de material: TextoIdioma: ENG Series Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ; 8Editor: Cambridge, [United Kingdom] : Cambridge University Press, 1999Descripción: ix, 221 páginas : ilustracionesTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0521591759 (empastado, cubierta dura)Tema(s): Semiconductores -- Ataque quimico | Ataque por plasmaClasificación CDD: 621.3815/2 Clasificación LoC:TK7871.85 | H574Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros | Libros Libros | Coleccion General | TK7871.85 H574 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 2340 |
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