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Film deposition by plasma techniques / Mitsuharu konuma

TextoSeries Springer series on atoms + plasmas ; 10Editor: Berlin : Springer Verlag, c1992Descripción: ix, 224 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 3540540571Tema(s): Películas delgadas | Deposición química de vapor asistida por plasmaClasificación LoC:TK7871.15F5 | K65

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Previo	TK7871.15F5 H54 High tc superconducting thin films : Processing, characterization, and applications, boston, ma 1989 /	TK7871.15F5 H54 High tc superconducting thin films : Processing, characterization, and applications, boston, ma 1989 /	TK7871.15F5 K39 Polycrystalline and amorphous thin films and devices /	TK7871.15F5 K65 Film deposition by plasma techniques /	TK7871.15F5 P85 Pulsed laser deposition of thin films /	TK7871.15G3 C65 1992 Semi-insulating III-V materials, Ixtapa, Mexico 1992 : proceedings of the 7th Conference on Semi-insulating III-V Materials, Ixtapa, Mexico, 21-24 april 1992 /	TK7871.15G3 I57 1992 Gallium arsenide and related compounds 1992 : proceedings of the Ninenteenth International Symposium on Gallium Arsenide and Related Compounds, Kauizawa, Japan, 28 September-2 October, 1992 /	Siguiente