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Characterization of plasma-enhanced cvd processes : Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess

TextoSeries Materials Research Society symposium proceedings ; v. 165Editor: Pittsburgh, pennsylvania : Materials research society, c1990Descripción: 250 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 1558990534Tema(s): Deposición química de vapor asistida por plasma -- Congresos | Circuitos integrados -- Diseño y construcción -- CongresosClasificación LoC:TS695.15 | C43

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