Imagen de Amazon.com
Characterization of plasma-enhanced cvd processes : Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess
Tipo de material:
TextoSeries Materials Research Society symposium proceedings ; v. 165Editor: Pittsburgh, pennsylvania : Materials research society, c1990Descripción: 250 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 1558990534Tema(s): Deposición química de vapor asistida por plasma -- Congresos | Circuitos integrados -- Diseño y construcción -- CongresosClasificación LoC:TS695.15 | C43
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Libros
|
Libros Libros | Coleccion General | TS695.15 C43 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 2352 |
Total de reservas: 0
No hay comentarios en este titulo.