Detalles MARC
000 -LIDER |
campo de control de longitud fija |
01094nam a2200241zi 4500 |
005 - FECHA Y HORA DE LA ULTIMA TRANSACCION |
campo de control |
20230201161215.0 |
008 - ELEMENTOS DE LONGITUD FIJA—INFORMACION GENERAL |
campo de control de longitud fija |
160926s2003 enka 100 0 eng |
020 ## - NUMERO INTERNACIONAL NORMALIZADO PARA LIBROS |
Número Internacional Normalizado del libro |
0444513396 |
020 ## - NUMERO INTERNACIONAL NORMALIZADO PARA LIBROS |
Número Internacional Normalizado del libro |
9780444513397 |
035 ## - NUMERO DE CONTROL DEL SISTEMA |
Número de control del sistema |
MX001001912467 |
040 ## - FUENTE DE CATALOGACION |
Agencia de catalogación original |
UKM |
Idioma de catalogación |
spa |
Convenciones de la descripción |
rda |
Agencia que realiza la transcripción |
UKM |
Agencia que realiza la modificación |
DLC |
-- |
UNAMX |
050 #0 - CLASIFICACION TOPOGRAFICA DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO (LC) |
Número clasificador |
TK7871.85 |
Número del ítem |
I5786 2001 |
111 2# - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE DE REUNION |
Meeting name or jurisdiction name as entry element |
International Conference on Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices |
Number of part/section/meeting |
(2 : |
Date of meeting or treaty signing |
2001 : |
Location of meeting |
Ise-Shima, Mie, Japón) |
245 10 - MENCION DEL TITULO |
Título |
Rapid thermal processing for future semiconductor devices : |
Parte restante del título |
proceedings of the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices (RTP 2001), held at Ise-Shima, Mie, Japan, November 14-16, 2001 / |
Mención de responsabilidad, etc. |
edited by Hisashi Fukuda |
264 #1 - DECLARACION DE AVISO DE PRODUCCION, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACION Y DERECHOS DE AUTOR PARA |
Lugar de producción, publicación, distribución, fabricación |
London : |
Nombre del productor, editor, distribuidor, fabricante |
Elsevier, |
Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o aviso de derechos |
2003 |
300 ## - DESCRIPCION FISICA |
Extensión |
x, 150 páginas : |
Otros detalles físicos |
ilustraciones |
336 ## - TIPO DE CONTENIDO |
Término del tipo de contenido |
texto |
Fuente |
rdacontent |
337 ## - TIPO DE MEDIO |
Término de tipo de medio |
sin medio |
Fuente |
rdamedia |
650 #0 - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Semiconductores |
Subdivisión general |
Tratamiento termico |
Subdivisión de forma |
Congresos |
650 #0 - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Procesamiento termico rapido |
Subdivisión de forma |
Congresos |
700 1# - ASIENTO SECUNDARIO - NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Fukuda, Hisashi, |
Término de relación |
editor |