Detalles MARC
| 000 -LIDER |
|---|
| campo de control de longitud fija |
00929nam a2200265zi 4500 |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ULTIMA TRANSACCION |
|---|
| campo de control |
20230201161159.0 |
| 008 - ELEMENTOS DE LONGITUD FIJA—INFORMACION GENERAL |
|---|
| campo de control de longitud fija |
040705s1999 enka b 001 0 eng |
| 020 ## - NUMERO INTERNACIONAL NORMALIZADO PARA LIBROS |
|---|
| Número Internacional Normalizado del libro |
0521591759 (empastado, cubierta dura) |
| 035 ## - NUMERO DE CONTROL DEL SISTEMA |
|---|
| Número de control del sistema |
MX001000845265 |
| 040 ## - FUENTE DE CATALOGACION |
|---|
| Agencia de catalogación original |
DLC |
| Idioma de catalogación |
spa |
| Agencia que realiza la transcripción |
DLC |
| Agencia que realiza la modificación |
UNAMX |
| 041 ## - CODIGO DE IDIOMA |
|---|
| Código de idioma para texto/pista de sonido o título separado |
ENG |
| 050 00 - CLASIFICACION TOPOGRAFICA DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO (LC) |
|---|
| Número clasificador |
TK7871.85 |
| Número del ítem |
H574 |
| 082 00 - NUMERO DE CLASIFICACION DECIMAL DEWEY |
|---|
| Número de clasificación |
621.3815/2 |
| Número de la edición |
21 |
| 100 1# - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Hitchon, W. Nicholas G., |
| Término relacionador |
autor |
| 245 10 - MENCION DEL TITULO |
|---|
| Título |
Plasma processes for semiconductor fabrication / |
| Mención de responsabilidad, etc. |
W. N. G. Hitchon |
| 264 #1 - DECLARACION DE AVISO DE PRODUCCION, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACION Y DERECHOS DE AUTOR PARA |
|---|
| Lugar de producción, publicación, distribución, fabricación |
Cambridge, [United Kingdom] : |
| Nombre del productor, editor, distribuidor, fabricante |
Cambridge University Press, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o aviso de derechos |
1999 |
| 300 ## - DESCRIPCION FISICA |
|---|
| Extensión |
ix, 221 páginas : |
| Otros detalles físicos |
ilustraciones |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO |
|---|
| Término del tipo de contenido |
texto |
| Fuente |
rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO |
|---|
| Término de tipo de medio |
sin medio |
| Fuente |
rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE PORTADOR |
|---|
| Término de tipo de transporte |
volumen |
| Fuente |
rdacarrier |
| 490 0# - MENCION DE SERIE |
|---|
| Mención de serie |
Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ; |
| Volume/sequential designation |
8 |
| 650 #0 - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Semiconductores |
| Subdivisión general |
Ataque quimico |
| 650 #0 - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Ataque por plasma |
