Detalles MARC
| 000 -LIDER |
|---|
| campo de control de longitud fija |
01135nam a2200277zi 4500 |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ULTIMA TRANSACCION |
|---|
| campo de control |
20230201161146.0 |
| 008 - ELEMENTOS DE LONGITUD FIJA—INFORMACION GENERAL |
|---|
| campo de control de longitud fija |
970106s1990 xxu 100 0 eng |
| 020 ## - NUMERO INTERNACIONAL NORMALIZADO PARA LIBROS |
|---|
| Número Internacional Normalizado del libro |
1558990534 |
| 035 ## - NUMERO DE CONTROL DEL SISTEMA |
|---|
| Número de control del sistema |
MX001000554040 |
| 050 ## - CLASIFICACION TOPOGRAFICA DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO (LC) |
|---|
| Número clasificador |
TS695.15 |
| Número del ítem |
C43 |
| 245 00 - MENCION DEL TITULO |
|---|
| Título |
Characterization of plasma-enhanced cvd processes : |
| Parte restante del título |
Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / |
| Mención de responsabilidad, etc. |
Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess |
| 264 #1 - DECLARACION DE AVISO DE PRODUCCION, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACION Y DERECHOS DE AUTOR PARA |
|---|
| Lugar de producción, publicación, distribución, fabricación |
Pittsburgh, pennsylvania : |
| Nombre del productor, editor, distribuidor, fabricante |
Materials research society, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o aviso de derechos |
c1990 |
| 300 ## - DESCRIPCION FISICA |
|---|
| Extensión |
250 páginas |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO |
|---|
| Término del tipo de contenido |
texto |
| Fuente |
rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO |
|---|
| Término de tipo de medio |
sin medio |
| Fuente |
rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE PORTADOR |
|---|
| Término de tipo de transporte |
volumen |
| Fuente |
rdacarrier |
| 490 0# - MENCION DE SERIE |
|---|
| Mención de serie |
Materials Research Society symposium proceedings ; |
| Volume/sequential designation |
v. 165 |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Deposición química de vapor asistida por plasma |
| Subdivisión de forma |
Congresos |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Circuitos integrados |
| Subdivisión general |
Diseño y construcción |
| Subdivisión de forma |
Congresos |
| 700 ## - ASIENTO SECUNDARIO - NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Lucovsky, G. |
| Término de relación |
editor |
| 700 ## - ASIENTO SECUNDARIO - NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Ibbtson, Dale E. |
| Término de relación |
editor |
| 700 ## - ASIENTO SECUNDARIO - NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Hess, Dennis W., |
| Término de relación |
editor |
| 710 2# - ASIENTO SECUNDARIO - NOMBRE CORPORATIVO |
|---|
| Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Materials Research Society |
| 830 #0 - ASIENTO SECUNDARIO DE SERIE--TITULO UNIFORME |
|---|
| Título uniforme |
Materials Research Society symposium proceedings |
| Número de serie estándar internacional |
0272-9172 |
