Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing /
Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing /
eds. Gregg S. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi
- xi, 515 páginas
Symposium Y celebrado durante la primavera de 1993 en la Meeting of the Materials Research Society, celebrado en San Francisco de abril 13-15, 1993
1558992138
Semiconductores--Diseño y construccion--Congresos
Tratamiento de superficies--Congresos
Semiconductores--Limpieza--Congresos
Química de superficies--Congresos
TK7871.85 / S84
Symposium Y celebrado durante la primavera de 1993 en la Meeting of the Materials Research Society, celebrado en San Francisco de abril 13-15, 1993
1558992138
Semiconductores--Diseño y construccion--Congresos
Tratamiento de superficies--Congresos
Semiconductores--Limpieza--Congresos
Química de superficies--Congresos
TK7871.85 / S84