Handbook of plasma procesing technology : Fundamentals, etching deposition, and surface interactions /
Handbook of plasma procesing technology : Fundamentals, etching deposition, and surface interactions /
Ed. by Stephen m. rossnagel, jerome j. cuomo, William d. westwood
- 553 páginas
0815512201
Ingeniería del plasma
Semiconductores--Ataque quimico
Ataque por plasma
TA2020 / H37
0815512201
Ingeniería del plasma
Semiconductores--Ataque quimico
Ataque por plasma
TA2020 / H37