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Characterization of plasma-enhanced cvd processes : Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess - 250 páginas - Materials Research Society symposium proceedings ; v. 165 . - Materials Research Society symposium proceedings .

ISBN: 1558990534

Subjects--Topical Terms:
Deposición química de vapor asistida por plasma--Congresos
Circuitos integrados--Diseño y construcción--Congresos

LC Class. No.: TS695.15 / C43